具有严格代工厂制备约束的光子器件逆向设计
新兴技术
2022-07-26 v2 机器学习
光学
摘要
我们引入一种用于纳米光子器件逆向设计的新方法，该方法保证所得设计满足严格的尺度约束——包括商业半导体代工厂所要求的最小线宽与间距约束。该方法借鉴机器学习的若干概念，将具有严格尺度约束的拓扑优化问题转化为无约束随机梯度优化问题。具体而言，我们引入一个用于可行设计的条件生成器，并采用直通估计器将梯度反向传播至潜空间设计。我们通过设计若干常见的集成光子元件来展示我们方法的性能与可靠性。
引用
@article{arxiv.2201.12965,
title = {Inverse design of photonic devices with strict foundry fabrication constraints},
author = {Martin F. Schubert and Alfred K. C. Cheung and Ian A. D. Williamson and Aleksandra Spyra and David H. Alexander},
journal= {arXiv preprint arXiv:2201.12965},
year = {2022}
}
备注
16 pages, 17 figures