高温超导体 CuO2 平面内本征耦合条纹

对高温超导体 CuO2 平面的电子态进行分析，特别关注分离后时序库仑相互作用的影响。揭示了不同的对称性破坏效应。确立了周期为 (2a,2b) 的共形电荷和键合波动态 (CBF)，其与反铁磁自旋态平行共存。CBF 态与反铁磁自旋态均源于相同的电子重整。在掺杂孔隙中确立了局域拓扑孔态的存在。局部对称性被破坏。可在此类拓扑孔态之间存在由四极化极化诱导的孔-孔吸引相互作用。这种相互作用形成有序的拓扑孔结构，导致全局对称性破坏。有序的拓扑孔结构 (b-孔) 可表征为沿特定 ..Cu-O-Cu.. 键合方向的平行一维电子态 (条纹)，且彼此本征耦合。b-孔态在孔浓度 $n$ 在 0.125 $\leq n \leq$ 0.25 holes/copper 的范围内保持稳定。除了 b-孔外，孔在孔浓度 $n >$ 0.125 holes/copper 处也存在非本征键合的孔 (f-孔)。不可避免的结果是在 0.125 $<$ $n \leq$ 0.25 holes/copper 范围内出现电子两种流动行为 (b-孔, f-孔)。给出与实验结果的比较，特别关注 mySR、中子散射 (1/8 问题)、霍尔效应异常以及扫描隧道显微镜 (STM)。