碰撞级联统计对离子喷射表面图案形成的影响
材料科学
2009-11-10 v1
摘要
描述离子束喷射过程中目标表面图案形成的理论连续模型基于 Sigmund 公式，该公式描述离子能量沉积的空间分布。对于小入射角以及非晶或多晶材料，此描述似乎合适，导致经典的 BH 形态理论 [R.M. Bradley 和 J.M.E. Harper, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 2390 (1988)]。本文通过二进制碰撞近似进行数值模拟研究铜晶体的喷射。我们观察到与 Sigmund 能量分布存在显著偏差。特别是，最符合我们模拟结果的分布在离子穿透表面位置附近存在一个最小值，能量沉积随距离离子轨迹的衰减呈指数衰减而非高斯型。我们提供一种考虑这些效应的修正连续理论，并探讨了修正能量分布对表面形态的影响。与 BH 理论不同，喷射产率随入射角的依赖性呈非单调变化，具有非倾斜入射角的峰值。
关键词
引用
@article{arxiv.cond-mat/0407245,
title = {Influence of Collision Cascade Statistics on Pattern Formation of Ion-Sputtered Surfaces},
author = {M. Feix and A. K. Hartmann and R. Kree and J. Munoz-Garcia and R. Cuerno},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0407245},
year = {2009}
}
备注
12 pages, 13 figures, RevTex