探寻具有 RKKY 相互作用的稀磁薄膜中的反铁磁层间耦合
材料科学
2015-05-13 v1 强关联电子
摘要
我们研究了一种包含稀磁双层结构并具有 RKKY 长程相互作用的模型薄膜。该磁性子系统由两个磁性掺杂层组成，它们被未掺杂的非磁性间隔层隔开，并置于由无限深量子阱模拟的更宽薄膜中。我们的研究重点在于可以预期磁性层之间存在反铁磁耦合的参数范围。求出了该系统的临界温度，并讨论了它们对磁性层厚度和载流子浓度的依赖关系。计算了每个磁性层内的磁化分布作为层厚度的函数。还讨论了将层磁化的相互取向从反铁磁态切换到铁磁态所需的外场。
引用
@article{arxiv.0901.2088,
title = {In search of antiferromagnetic interlayer coupling in diluted magnetic thin films with RKKY interaction},
author = {Karol Szałowski and Tadeusz Balcerzak},
journal= {arXiv preprint arXiv:0901.2088},
year = {2015}
}
备注
11 pages, 9 figures