在单喷注搜寻中识别暗物质相互作用

我们利用平均喷注能量轮廓技术，研究了在单喷注暗物质搜寻中区分夸克起源喷注与胶子起源喷注的问题。我们在暗物质与夸克和胶子相互作用的有效场论背景下展示了我们的结果，但我们的方法更普遍地适用于一大类模型。不同的暗物质有效理论和标准模型背景各自具有特征性的领头喷注夸克/胶子比例。当与传统的截断计数单喷注搜寻结合使用时，喷注能量轮廓可用于对暗物质的接触相互作用设定更强的限制。如果在 14 TeV 大型强子对撞机 (LHC) 上发现单喷注超出，暗物质与夸克或与胶子的接触相互作用可以在 95% 置信水平上被区分开来。对于 LHC 上给定的产生率，不同暗物质相互作用在直接探测实验中的信号预测可以跨越五个数量级。识别这些相互作用的能力使我们能够在 LHC 搜寻与直接探测实验之间建立更紧密的联系。