基于分层 CVAE 的描画/磨削轨迹生成
机器学习
2021-11-25 v2 系统与控制
系统与控制
摘要
在本研究中，我们提出一种利用分层变分自编码器（VAE）对描画/磨削轨迹的局部与全局特征进行建模的方法。通过将两个分别训练的 VAE 模型以分层结构相结合，能够生成在局部与全局特征上均具有高复现性的轨迹。该分层生成网络可利用相对少量的训练数据生成更高阶的轨迹。仿真与实验结果证明了所提方法的泛化性能。此外，我们确认通过变更已学习模型的组合，可生成过去从未学习过的新轨迹。
引用
@article{arxiv.2111.10954,
title = {Generation Drawing/Grinding Trajectoy Based on Hierarchical CVAE},
author = {Masahiro Aita and Keito Sugawara and Sho Sakaino and Toshiaki Tsuji},
journal= {arXiv preprint arXiv:2111.10954},
year = {2021}
}
备注
7pages, 18figures