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电子显微镜中贝塞尔光束的产生与应用

量子物理 2015-05-29 v1

摘要

我们报告了电子贝塞尔光束全息生成的系统处理,着眼于在电子显微镜中的应用。我们详细描述了全息图构图背后的理论,以及实验中使用的实际电光配置。我们展示通过优化我们的纳米制备方案,电子贝塞尔光束可以产生高达 37±3%37 \pm 3\% 的效率。我们还通过调节各种全息图参数证明,电子贝塞尔光束可以产生许多可见环,使其成为干涉应用的理想选择,或者以更少环的更高局域化形式产生,更适合成像。我们描述了以这种方式调节光束局域化所需的设置,并探索允许控制电子贝塞尔光束的会聚度和拓扑电荷的光束与全息图配置。我们还使用考虑全息图制造过程缺陷的模拟程序,表征了用我们的技术生成的贝塞尔光束的相位结构。最后,我们讨论了电子贝塞尔光束在扫描透射电子显微镜中的一个特定潜在应用。

关键词

引用

@article{arxiv.1505.07815,
  title  = {Generation and Application of Bessel Beams in Electron Microscopy},
  author = {Vincenzo Grillo and Jérémie Harris and Gian Carlo Gazzadi and Roberto Balboni and Erfan Mafakheri and Mark R. Dennis and Stefano Frabboni and Robert W. Boyd and Ebrahim Karimi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1505.07815},
  year   = {2015}
}