Illumina BeadArrays 真实强度的广义 Beta 卷积模型
统计方法学
2015-02-18 v2
摘要
微阵列数据源自多个生产步骤，已知其中包含噪声。预处理旨在通过背景校正来降低噪声。在进一步分析之前，许多 Illumina BeadArrays 用户应用了卷积模型来调整强度值（即校正后的背景强度值），该模型改编自最初在 Affymetrix 平台上开发的模型。人们已提出并应用了多种基于不同底层分布或参数估计方法的模型，例如：采用最大似然估计、非参数法、贝叶斯法和矩估计法的指数 - 伽马、正态 - 伽马以及指数 - 正态卷积，包括最近提出的指数 - 对数正态和伽马 - 对数正态卷积。在本文中，我们提出了基于广义 Beta 分布和广义 Beta-正态卷积的模型，作为现有模型的推广，并推导了校正后的背景强度。
引用
@article{arxiv.1312.5967,
title = {Generalized beta convolution model of the true intensity for the Illumina BeadArrays},
author = {Rohmatul Fajriyah},
journal= {arXiv preprint arXiv:1312.5967},
year = {2015}
}