氟或氯取代对铁电纹射液晶介相性质的影响
计算机视觉与模式识别
2026-03-06 v1 人工智能
摘要
铁电纹射相(NF)代表了液晶领域中极具吸引力且居首的研究方向,兼具流动性与铁电性。NF 材料表现出较大的极化值和卓越的非线性光学特性。我们设计了一种新颖的分子结构,在电致动基团的位置引入卤素取代基。通过这种修改,延长的分子核心导致铁电纹射相(NF)在纹射相以下出现。此外,我们首次将 Cl 原子用于一种呈现材料的分子核心,以用于铁电纯态体。我们考察了 NF 相的胞状行为和铁电特性。在进行 antiparallel 橡皮纸处理的单元格中,我们检测到一种纹理变形,证明了表面锚定具有强极性。所呈报告的结果为设计铁电纹射液晶化合物提供了宝贵的见解。
引用
@article{arxiv.2603.05095,
title = {GEM-TFL: Bridging Weak and Full Supervision for Forgery Localization through EM-Guided Decomposition and Temporal Refinement},
author = {Xiaodong Zhu and Yuanming Zheng and Suting Wang and Junqi Yang and Yuhong Yang and Weiping Tu and Zhongyuan Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2603.05095},
year = {2026}
}
备注
10 pages, 4 figures, accepted by CVPR 2026