用于遮挡光瞳望远镜的二元形瞳掩模冕镜实验演示
天体物理仪器与方法
2016-04-01 v1
摘要
我们展示了三种独立式二元形瞳掩模冕镜的制备与实验演示，其适用于具有部分遮挡光瞳的望远镜。三个设计为互补的掩模（标记为 Mask-A、Mask-B 和 Mask-C）由 5 微米厚镍制成。Mask-A 的设计基于一维条形码掩模。Mask-B 的设计原理类似，但具有比 Mask-A 更小的内工作角和更低的对比度。Mask-C 基于同心环掩模，并提供最宽的暗区与对称的点扩散函数。Mask-A 和 Mask-C 均被设计为产生灵活定制的暗区（即非均匀对比度）。对比度使用由中心波长 650 nm 的宽带超发光发光二极管组成的光源评估，测量在大型真空室中进行。本工作未应用主动波前控制。实验获得的冕镜图像与设计并基本相符。Mask-A 在 3.3 - 8 λ/D 和 8 - 12 λ/D 范围内的对比度分别约为 10^{-4} - 10^{-7} 和 ~10^{-7}，其中 λ 为波长，D 为光瞳直径。Mask-B 中心附近的对比度约为 10^{-4}，而 Mask-C 在扩展视场（5 - 25 λ/D）上的对比度约为 10^{-5} - 10^{-6}。研究了倾斜掩模的效应，发现其在 ~10^{-7} 对比度水平下可忽略。因此掩模可倾斜以避免重影。这些高对比度独立式掩模有潜力利用具有非专为冕镜设计之光瞳结构的地基和天基通用望远镜，在宽波长范围内实现冕镜成像。
引用
@article{arxiv.1603.09374,
title = {Experimental demonstration of binary shaped pupil mask coronagraphs for telescopes with obscured pupils},
author = {Kanae Haze and Keigo Enya and Lyu Abe and Aoi Takahashi and Takayuki Kotani and Tomoyasu Yamamuro},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.09374},
year = {2016}
}
备注
17 pages, 8 figures