金属/氧化物界面 Edelstein 磁阻的体相-界面贡献评估
介观与纳米尺度物理
2017-10-23 v1 材料科学
摘要
我们报告了对 Co25Fe75/Cu/Bi2O3 异质结中 Edelstein 磁阻（Edelstein MR）的系统研究，该异质结在 Cu/Bi2O3 界面具有强自旋轨道相互作用。我们成功观察到 Edelstein MR 对 Cu 层厚度和温度的显著依赖性，并开发了一个考虑自旋弛豫中不同体相和界面贡献的通用解析模型。我们基于上述模型的分析，定量地说明了 Rashba 界面附近自旋输运的独特性质，通过确定界面内外的自旋弛豫比率，揭示了自旋弛豫过程的突出作用。我们进一步发现该特征自旋输运不受温度影响。我们的结果为探索具有自旋动量锁定二维态的系统中的输运提供了重要工具。
引用
@article{arxiv.1710.06058,
title = {Evaluation of bulk-interface contributions to Edelstein magnetoresistance at metal/oxide interfaces},
author = {Junyeon Kim and Yan-Ting Chen and Shutaro Karube and Saburo Takahashi and Kouta Kondou and Gen Tatara and YoshiChika Otani},
journal= {arXiv preprint arXiv:1710.06058},
year = {2017}
}
备注
18 pages, 5 figures, Accepted in Phys. Rev. B Rapid Communications