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铁磁不稳定性附近的增强畴壁速度

强关联电子 2022-10-06 v4

摘要

假设 ss 传导电子具有费米液体行为,我们将通过朗道参数 FlaF^{a}_{l}l=0,1,2l=0,1,2 \cdots)由相互作用重整化的扩展 Landau-Lifshitz-Gilbert(LLG)方程改写为显式形式,以描述由于自旋转移矩现象引起的畴壁(DW)动力学。s 传导电子自旋之间的相互作用定性地解释了我们在无缺陷或杂质假设下重新计算的 Ni81Fe19\mathrm{Ni_{81}}\mathrm{Fe_{19}}(坡莫合金)中 DW 速度的实验观测。在 Stoner 铁磁不稳定性点附近,其中 F0a0.99F^{a}_{0} \approx -0.99,与非绝热方法计算的结果相比,DW 速度变高(vDW600v^{*}_{DW}\approx 600 ms1ms^{-1}),临界自旋电流密度降低(jc1×1012j^{*}_{c}\approx1\times10^{12} Am2Am^{-2})。在临界点,DW 速度发散而同一点的临界自旋电流密度趋于零。我们的理论还预测了寻找这样一类材料的途径:其中可施加最小的临界自旋电流密度并观测到更高的 DW 速度。

关键词

引用

@article{arxiv.1811.05380,
  title  = {Enhanced domain wall velocity near a ferromagnetic instability},
  author = {H. B. Brentan and P. F. Farinas},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1811.05380},
  year   = {2022}
}

备注

This paper has been withdrawn by the author due to a non-accurate conclusion