基于 CMOS 就绪光子技术的工程化零色散微梳
光学
2023-01-27 v1 斑图形成与孤子
摘要
与亮脉冲微梳相比，正常群速度色散（GVD）微梳具有更高的梳线功率与更高的泵浦效率。近期利用 CMOS 代工微谐振腔实现正常 GVD 微梳的演示，是迈向规模化生产的重要一步。然而，CMOS 器件的色散较大，阻碍了宽带微梳的生成。在此，我们报道了一种因双环谐振腔构型而降低 GVD 的微谐振腔的开发。该谐振腔在转盘自注入锁定模式下运行，并与半导体激光泵浦混合集成，产生以 1560 nm 为中心、带宽 9.9 nm（1.22 THz）、对应 62 条梳线的高功率效率梳。利用对梳波形的快速线性光学采样，我们观察到了丰富的近零 GVD 梳行为，包括孤子分子、开关波（platicons）及其杂化态。通过电驱动调谐 20 GHz 重复频率可实现至微波参考的伺服锁定，从而同时稳定梳重复频率、偏移频率与时间波形。该混合集成系统可用于相干通信，或通过两点光学频率划分生成超稳定微波信号。
引用
@article{arxiv.2301.10969,
title = {Engineered zero-dispersion microcombs using CMOS-ready photonics},
author = {Qing-Xin Ji and Warren Jin and Lue Wu and Yan Yu and Zhiquan Yuan and Wei Zhang and Maodong Gao and Bohan Li and Heming Wang and Chao Xiang and Joel Guo and Avi Feshali and Mario Paniccia and Vladimir S. Ilchenko and Andrey B. Matsko and John Bowers and Kerry Vahala},
journal= {arXiv preprint arXiv:2301.10969},
year = {2023}
}
备注
8 pages, 4 figures