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重访 URu2Si2 中的电子向列性

强关联电子 2020-07-01 v1 材料科学

摘要

URu2Si2 中隐序(HO)态的本质仍是重费米子物理中 major 未解决问题之一。近来,转矩磁强法、X 射线衍射和弹阻数据表明,THO = 17.5 K 处的 HO 相变由电子向列效应驱动。在此,我们利用各向异性热膨胀、杨氏模量、弹阻和比热测量来寻找这一所谓结构失稳的热力学迹象。与已发表结果相反,我们在任何数据中均未发现转动对称性破缺的证据。有趣的是,我们的弹阻测量与已发表结果完全一致,表现出居里-韦斯发散,但我们将其归因于体积效应而非对称性破缺效应。最后,在我们的热容数据中观察到热涨落的明确证据,并由此估算出 HO 关联长度。

关键词

引用

@article{arxiv.2005.01189,
  title  = {Electronic nematicity in URu2Si2 revisited},
  author = {Liran Wang and Mingquan He and Frederic Hardy and Dai Aoki and Kristin Willa and Jacques Flouquet and Christoph Meingast},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2005.01189},
  year   = {2020}
}

备注

4 Figures, 5 pages