设计型表面等离激元晶体中谷极化拓扑边缘态的直接观测
光学
2017-11-06 v3
摘要
二维层状材料的广泛研究已揭示，谷作为动量空间中的能量极值，可提供一种承载信息的新自由度。基于这一概念，研究者预测了谷霍尔拓扑绝缘体，其可在非平凡畴壁处支持谷极化边缘态。近来，多种光子或声子晶体被提出作为谷霍尔拓扑绝缘体的经典对应物。然而，迄今为止光子晶体中谷极化边缘态的直接实验观测仍然困难。在此，我们展示了一种由沉积在介质衬底上的金属图案构成的设计型表面等离激元晶体，通过利用镜像对称破缺机制，其可成为谷霍尔光子拓扑绝缘体。具有谷依赖传输的拓扑边缘态在微波频段被直接可视化。通过空间傅里叶变换，证实所观测的边缘态是完全谷极化的。边缘态在尖角处的拓扑保护也得到了实验证明。
引用
@article{arxiv.1703.04570,
title = {Direct Observation of Valley-polarized Topological Edge States in Designer Surface Plasmon Crystals},
author = {Xiaoxiao Wu and Yang Meng and Jingxuan Tian and Yingzhou Huang and Hong Xiang and Dezhuan Han and Weijia Wen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1703.04570},
year = {2017}
}