RHIC 处的双喷注关联：领头阶$k_t$因子化方法与次领头阶共线方法的对比

我们比较了$k_t$因子化方法与次领头阶（NLO）共线因子化方法在 RHIC 能量下质子 - 质子碰撞中双喷注关联的结果。我们讨论了方位角中的关联以及两个喷注横向动量二维空间中的关联。文献中首次包含了一些$k_t$因子化子过程。$k_t$因子化方法中使用了不同的非积分胶子/部分子分布。结果依赖于所使用的 UGDF/UPDF。对于共线 NLO 情况，结果显著取决于我们是考虑任意两个喷注的关联还是仅考虑领头喷注的关联。在第一种情况下，与$k_t$因子化方法中求和的软辐射相关的$2 \to 2$贡献在$\phi \sim \pi$且喷注横向动量模相等时占主导地位。共线 NLO $2 \to 3$贡献在小相对方位角以及不对称横向动量构型下优于$k_t$因子化截面。在第二种情况下，由于简单的运动学约束，NLO 贡献在小相对方位角和/或大喷注横向动量不平衡处消失。$k_t$因子化方法没有此类限制。所有这些都使得这两种方法相当互补。文中讨论并量化了若干截断的作用。