利用NH$_3$与H$_2$O轮廓诊断激波温度

在之前对L1157 B1激波腔的研究中，NH$_3$(1$_0$-$0_0$)与H$_2$O(1$_{\rm 10}$--1$_{\rm 01}$)跃迁的轮廓比较显示出显著差异，H$_2$O在明显更高的速度上发射。这种行为被解释为该外流B1腔中激波后气体发生高温气相化学的结果。如果氨和水之间的行为差异确实是激波通过期间达到高气体温度的结果，那么应在化学丰富外流中普遍发现此类差异。为了确定NH$_3$与H$_2$O之间观察到的轮廓差异是L1157独有还是化学丰富外流的共同特征，我们利用Herschel-HIFI观测了样本中包含的8个已在WISH KP内观测过H$_2$O(1$_{\rm 10}$--1$_{\rm 01}$)线的明亮低质量外流点处的572.5 GHz NH$_3$(1$_0$-0$_0$)谱线。我们在大多数外流位置探测到了高速氨发射。所有情况下，水发射达到比NH$_3$更高的速度，证明该行为并非L1157-B1位置独有。与气-粒化学和激波模型的比较证实，对于此更大样本，氨的行为主要由气体温度决定。