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通过剪切设计莫尔图案

介观与纳米尺度物理 2025-03-19 v3

摘要

我们分析了置于石墨烯之上的剪切纳米带的弹性性质、结构效应与低能物理,其产生逐渐变化的莫尔图案。借助经典弹性模型,我们推导了带中的应变,并利用标度紧束缚模型获得了其电子能谱。剪切区域的大小由弹性能与范德瓦耳斯能之间的平衡决定,并识别出不同 regime。在夹持边缘附近,中等应变与小扭曲角导致一维通道。在剪切边缘附近,长区域表现得如同魔角扭转双层石墨烯(TBG),在态密度中显示出尖锐峰,且大体与能谱其余部分隔离。我们还计算了沿纳米带的能带拓扑,发现其在很大应变与扭曲角区间内稳定。结合实验观测,这些结果表明剪切纳米带几何结构是用于在极低扭曲角无序这一备受渴求 regime 下探索 TBG 中超导性与关联相的理想平台。

关键词

引用

@article{arxiv.2310.13743,
  title  = {Designing Moire Patterns by Shearing},
  author = {Pierre A. Pantaleon and Hector Sainz-Cruz and Francisco Guinea},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2310.13743},
  year   = {2025}
}

备注

Updated title and abstract. For published version please follow DOI