用于沉积系统的紧凑型旋转衬底加热器的设计与构建
仪器与探测器
2020-12-04 v1 应用物理
摘要
我们设计并构建了一台适用于 25 C 至 700 C 温度范围的紧凑型旋转衬底加热器。该加热器可集成于任何需要晶体样品的沉积系统中。其主要功能是在薄膜生长过程中提供原位热处理。温度由耦合 K 型热电偶的温度控制器监测与控制。加热器外壳被设计用于容纳电阻加热元件，同时允许衬底托架自由旋转。旋转对于沉积过程中薄膜的均匀性以及消除衬底托架上的温度梯度都至关重要。为耐受氧化与腐蚀环境，该仪器采用不锈钢制造，其同时利用散热作用充当“冷却剂”。该仪器在长时间运行中表现良好且温度稳定。我们希望该项目对希望拥有满足晶体生长与薄膜均匀性要求的紧凑型旋转加热器的实验室有所帮助。
引用
@article{arxiv.2003.04184,
title = {Design and construction of a compact rotary substrate heater for deposition systems},
author = {Israel Perez and Tareik Netro and Mario Vazquez and Jose Elizalde},
journal= {arXiv preprint arXiv:2003.04184},
year = {2020}
}
备注
7 pages, 8 figures