DeepScaleTool：深亚微米时代技术缩放精确估计工具
系统与控制
2021-05-17 v1 硬件体系结构
性能
系统与控制
摘要
定义各种尺寸与电学参数缩放因子的经典CMOS“恒场”或“Dennard”缩放方法的估计，在深亚微米 regime 已变得不够准确，这驱动了对更好估计方法的需求，尤其在教育与研究领域。我们提出DeepScaleTool，一种通过建模并曲线拟合某领先商业制造公司发布的130~nm至7~nm硅制造技术代关键参数（面积、延迟和能耗）数据，来精确估计深亚微米技术缩放的工具。与某领先代工厂发布的10~nm--7~nm缩放数据相比，DeepScaleTool在面积上实现1.7%误差、延迟2.5%、功耗5%。这优于另一种领先学术估计方法（其面积误差24%、延迟9.1%、功耗24.9%）。
引用
@article{arxiv.2102.10195,
title = {DeepScaleTool : A Tool for the Accurate Estimation of Technology Scaling in the Deep-Submicron Era},
author = {Satyabrata Sarangi and Bevan Baas},
journal= {arXiv preprint arXiv:2102.10195},
year = {2021}
}
备注
This paper has been accepted for the 2021 IEEE International Symposium on Circuits and Systems. \copyright 2021 IEEE. Copyright statements are posted on the first page. 5 Pages, 5 Figures