导体板附近真空涨落引起的退相干与复相干

粒子与电磁场之间的相互作用会诱导退相干，从而在干涉实验中产生条纹的微小抑制。我们表明，若在导体平面附近进行双缝类实验，条纹可见度取决于实验相对于导体平面的位置（与取向）。这一现象源于导体引起的真空结构的改变，并与卡西米尔效应密切相关。我们估算了带电粒子以及具有永久偶极矩的中性粒子的条纹可见度。导体的存在在某些情况下可能倾向于增强退相干，而在其他情况下则减弱之。对此奇特行为给出了一个简单解释。