控制磁流体盘风的准直与旋转

（删节）我们展示了一组全面的轴对称、时变模拟，这些模拟来自开普勒盘，其质量加载随盘半径系统变化。对于吸积盘密度结构和注入速度的合理模型，质量加载由盘磁场结构的径向分布决定。我们通过使用四种不同的磁场配置来改变这种结构，从“势”配置（Ouyed & Pudritz 1997），到逐渐更陡下降的Blandford & Payne（1982）和Pelletier & Pudritz（1992）模型，最后到与Shu X-wind模型相似的相当陡峭的倾斜配置。我们发现，质量加载的径向分布对底层喷流的旋转轮廓以及其外流速度和磁场线的准直程度都有深远影响。我们通过解析分析并通过模拟证实，喷流的准直取决于其径向电流分布，而径向电流分布又由质量加载决定。具有陡峭下降质量加载的模型具有强环向场，这些场准直成圆柱形（这包括Ouyed-Pudritz和Blandford-Payne外流）。另一方面，更平缓下降的质量加载轮廓（PP92和单极分布）具有较弱的环向场，导致宽角度外流和抛物线准直。我们还提供了喷流的详细结构信息，例如其喷流密度、环向磁场和极向喷流速度的径向轮廓，以及对我们不同模拟的整体能量学的分析。