约束无噪声晕自旋参数分布

使用N体模拟进行的任何测量都受到由于用于采样暗物质分布函数的粒子数量有限以及模拟分辨率以下缺乏结构而产生的噪声。当试图测量本征上微小的量（如晕自旋）时，这种噪声可能特别显著。在本工作中，我们开发了一个模型来描述粒子噪声对晕自旋参数的影响。该模型使用N体模拟进行校准，其中粒子噪声可以被视为底层暗物质分布函数上的泊松过程，我们证明这个校准后的模型重现了N体收敛研究中之前测量的晕自旋参数误差分布。利用该模型以及N体模拟中晕自旋参数分布的先前测量结果，我们对无噪声晕自旋分布施加了约束。我们发现无噪声中位自旋比直接从N体模拟测量的值低3%，对应于仅由晕计数统计引起的测量统计不确定性的约40倍的偏移。我们还表明，以10%精度测量单个晕的自旋需要至少$4\times 10^4$个粒子——对于包含200个粒子的晕，测量单个晕自旋的分数误差为量级1。