硅双量子点中隧穿和谷耦合参数的完整测量
量子物理
2026-07-10 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
隧穿对于量子点量子比特的初始化、测量和控制至关重要。在硅中,这种隧穿不仅连接量子比特态,还连接布里渊区相对两侧导带中的谷最小值,对量子点行为产生重大影响。在此,我们展示了谷内和谷间隧穿耦合的完整表征,包括它们的复相位——谷相位。这些相位被证明控制着可测量参数,包括双量子点量子态之间反交叉处能隙的比率。谷相位本身随量子点栅极电压的变化而演化,并依赖于量子阱的底层原子结构。对谷相位的了解完善了图景,并填补了我们对谷耦合的样品范围变化以及依赖于它们的物理参数(包括自旋轨道耦合、谷轨道混合和朗德 因子)理解中的关键空白。
引用
@article{arxiv.2607.09638,
title = {Complete measurement of tunnel- and valley-coupling parameters in a silicon double quantum dot},
author = {Daniel J. King and Minyoung Kim and J. Reily and Jonathan C. Marcks and Mark Friesen and Benjamin D. Woods and M. A. Eriksson},
journal= {arXiv preprint arXiv:2607.09638},
year = {2026}
}
备注
25 pages (9 main, 14 supplementary), 9 figures (3 main, 6 supplementary)