致密陡谱和较大源中河外射电喷流的准直

我们通过考察射电喷流中热点和结的尺寸与天体整体尺寸之间的依赖关系，研究了高光度Fanaroff-Riley II类源中射电喷流的准直。天体的整体尺寸跨越约50 pc到近1 Mpc的广泛范围。热点的平均尺寸在CSS阶段（通常认为约为20 kpc）随源尺寸增大而增加，对于较大源该关系趋于平缓。致密源和较大源中结的尺寸与这一趋势一致。我们讨论了这些趋势的可能影响。我们发现，对于最不对称的天体（热点与核的分离比 r_d > 2），靠近核或核心成分的热点往往更致密。这些高度不对称的天体无一例外都是CSS天体，它们在热点尺寸比-分离比图中的位置可能是由于其在不对称环境中的演化所致。我们还提出，一些源，尤其是低光度源，在相反方向射电喷流的准直上表现出不对称性。