中文

坡莫合金薄膜中拓扑缺陷的粗化动力学

介观与纳米尺度物理 2016-10-26 v1 统计力学

摘要

我们研究了矩形坡莫合金薄膜元件在从随机磁化初态弛豫过程中其磁结构中拓扑缺陷的动力学。我们的完整微磁学模拟揭示了在弛豫至稳定 Landau 闭合畴图案过程中的复杂缺陷动力学,表现为多种物理量的时间幂律衰减,并具有依赖于系统尺寸的截断时间。这些物理量包括系统的能量密度,以及系统中存在的不同类型拓扑缺陷的数密度。相关的幂律指数取非平庸值,并且发现不同缺陷类型的指数不同。该指数对 Gilbert 阻尼常数的适度增加和淬火结构无序的引入具有鲁棒性。我们讨论了由缺陷环绕数守恒所允许的过程的细节,这些过程构成了其复杂粗化动力学的基础。

关键词

引用

@article{arxiv.1609.01094,
  title  = {Coarsening dynamics of topological defects in thin Permalloy films},
  author = {Ilari Rissanen and Lasse Laurson},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1609.01094},
  year   = {2016}
}

备注

10 pages, 13 figures