清洗石墨烯：一种初步的量子/经典分子动力学方法
材料科学
2016-04-20 v1
摘要
石墨烯的卓越性质在凝聚态领域引起了巨大兴趣，并获得了国际规模空前的资助以期望应用开发。最近，有多篇报道指出用于将生长态石墨烯从一基底转移到另一基底的聚合物抗蚀剂去除不完全，导致石墨烯传输性质改变。寻找一种大规模解决方案以清除石墨烯表面吸附残留物是非常可取的，而一个有前景的可能性是使用氢等离子体。本着此目的，我们在此耦合量子与经典分子动力学模拟，探究原子氢选择性刻蚀简单残留物（一个 CH3 基团）而不对石墨烯造成不可逆损伤所需的动能范围。对于 2-15 eV 范围内的入射能量，CH3 自由基可通过形成挥发的 CH4 化合物离开表面而被刻蚀，该化合物以 CH4 形式或断裂为 CH3+H 碎片离开，且不产生进一步缺陷。在此能量下，氢原子在石墨烯上的吸附是可能的，且将需要进一步的退火以恢复原始石墨烯。
引用
@article{arxiv.1511.07241,
title = {Cleaning graphene : a first quantum/classical molecular dynamics approach},
author = {L. Delfour and A. Davydova and E. Despiau-Pujo and G. Cunge and D. B. Graves and L. Magaud},
journal= {arXiv preprint arXiv:1511.07241},
year = {2016}
}
备注
9 figures, 27 pages