亮场 AAPSM 冲突检测与修正
硬件体系结构
2011-11-09 v1
摘要
随着特征尺寸缩小，有必要使用交替孔径相移掩模（AAPSM）来成像关键特征，特别是在多晶硅层上。这在传统设计规则之外对版图施加了额外的约束。特别需要注意的是，所有关键特征必须由相反相位的移相器包围，同时移相器需遵守最小宽度和间距要求。如果版图满足此要求，则称为可相位分配的。如果版图不可相位分配，则必须移除相位冲突以便在该版图上使用 AAPSM。先前的工作致力于检测一组合适的待移除相位冲突并进行修正。本文的贡献如下：(1) 一种检测最小相位冲突集（也称为 AAPSM 冲突）的新方法，修正这些冲突后将产生可相位分配的版图；(2) 一种用于修正这些 AAPSM 冲突的新型版图修改方案。与先前方法相比，所提出的冲突检测方法在实际工业电路的结果质量和运行时间上显示出显著改进。据我们所知，这是首次展示亮场 AAPSM 的版图修改结果。我们的实验表明，使版图变为可相位分配所需的面积增加百分比范围为 0.7% 至 11.8%。
引用
@article{arxiv.0710.4661,
title = {Bright-Field AAPSM Conflict Detection and Correction},
author = {C. Chiang and A. Kahng and S. Sinha and X. Xu and A. Zelikovsky},
journal= {arXiv preprint arXiv:0710.4661},
year = {2011}
}
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