多晶铜电沉积的原子动力学蒙特卡洛模拟
化学物理
2014-07-22 v2 材料科学
计算物理
摘要
一种高保真动力学蒙特卡洛 (KMC) 模拟方法 (T. Treeratanaphitak, M. Pritzker, N. M. Abukhdeir, Electrochim. Acta 121 (2014) 407--414)，采用半经验多体嵌入原子法 (EAM) 势，已被扩展用于模拟多晶金属电沉积。利用 KMC-EAM 在不同过电位下进行模拟，以预测其对沉积织构演化的影响。观察到粗糙度 - 时间幂律行为 ()，其中 ，这与过去的实验结果吻合良好。此外，这些模拟提供了关于亚表面沉积形貌动力学的见解，而这些是实验测量无法直接获取的。
引用
@article{arxiv.1405.4559,
title = {Atomistic Kinetic Monte Carlo Simulations of Polycrystalline Copper Electrodeposition},
author = {Tanyakarn Treeratanaphitak and Mark D. Pritzker and Nasser Mohieddin Abukhdeir},
journal= {arXiv preprint arXiv:1405.4559},
year = {2014}
}
备注
7 pages, 3 figures