利用微加工结构的原子干涉
原子物理
2007-05-23 v1
摘要
考虑了原子束通过一或两个微加工结构(MS)后所产生的原子密度分布。考虑了大角散度与小角散度束两种极限情形。建立了基于菲涅耳-基尔霍夫衍射理论与基于原子反冲效应的考量之间的等价性。计算了共线束中由原子塔博特效应产生的高阶光栅分布。对大角散度原子束,分析了原子离 MS 散射的两种机制:经典与量子。对来自两个 MS 的经典散射,由于阴影效应,原子密度周期调制在回波点聚焦。详述了回波效应的简单几何解释。完全分类了由周期比为有理数的两个 MS 所诱导的去相-重相过程。计算了高阶光栅的位置与分布。包含了由量子散射引起的光栅畸变。在此对应于原子塔博特-劳效应的情况中,当两场间距等于塔博特距离的 1/n 部分时,由阴影效应所致的光栅被压缩 n 倍。
引用
@article{arxiv.physics/0005078,
title = {Atom Interference using microfabricated structures},
author = {B. Dubetsky and P. R. Berman},
journal= {arXiv preprint arXiv:physics/0005078},
year = {2007}
}
备注
33 pages, including 16 figures