光谱椭偏术与穆勒椭偏术在光学表征中的应用
光学
2013-01-11 v2
摘要
本文旨在简要概述已确立及新型的椭偏术技术及其应用。椭偏术是一种间接光学技术，其通过建模分析获取样品的物理性质信息。标准椭偏术通常用于表征光学各向同性的块体和/或层状材料。而对于各向异性和/或去偏振样品（此类样品在研究与“现实生活”活动中屡见不鲜），则必须采用更先进的技术，如穆勒椭偏术（文献中也称为偏振测量术），以实现完整且准确的表征。本文涵盖三个主要主题：偏振的基本理论、标准椭偏术以及穆勒椭偏术。第一部分致力于对描述光偏振的形式体系进行简短的教学式介绍。第二部分致力于标准椭偏术，重点在于实验方面，包括商用仪器的优缺点。第三部分致力于穆勒椭偏术的最新进展。第二和第三部分提供了应用实例，以阐明每种技术的工作原理。
引用
@article{arxiv.1210.1076,
title = {Application of Spectroscopic Ellipsometry and Mueller Ellipsometry to Optical Characterization},
author = {Enric Garcia-Caurel and Antonello De Martino and Jean-Paul Gaston and Li Yan},
journal= {arXiv preprint arXiv:1210.1076},
year = {2013}
}